В мире меньше 10 стран, способных выпускать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их число входит Россия.
Компания – резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва», Зеленоградский нанотехнологический центр, создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом мэр Москвы Сергей Собянин рассказал в своем телеграм-канале.
– В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе – Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства. Российский фотолитограф создан при партнерстве с белорусским заводом, имеющим огромный опыт в этой сфере, – написал мэр Москвы.
Отечественная установка существенно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использована не ртутная лампа, а твердотельный лазер – мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.
На отечественный фотолитограф уже есть заказчик. Технологические процессы адаптируют к особенностям производства конечного потребителя.
В настоящее время ведется разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году.
Фото: mos.ru
Новости Зеленограда